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EDI超純水設(shè)備廠家

 

一、EDI超純水制取設(shè)備概述
EDI裝置屬于精處理水系統(tǒng),一般多與反滲透(RO)配合使用,組成預(yù)處理、反滲透、EDI裝置的超純水處理系統(tǒng), 是傳統(tǒng)離子交換混床工藝的取代技術(shù)。EDI裝置進(jìn)水要求為電阻率為0.05-0.5MΩ·cm,反滲透裝置完全可以滿足要求。EDI裝置可生產(chǎn)電阻率高達(dá)15MΩ·cm以上的超純水。
二、EDI超純水制取設(shè)備工藝原理
EDI超純水設(shè)備又稱連續(xù)電除鹽技術(shù),是一種超純水制造技術(shù)。它通過陽、陰離子膜對陽、陰離子的選擇透過作用以及離子交換樹脂對水中離子的交換作用,在電場的作用下實(shí)現(xiàn)水中離子的定向遷移,從而達(dá)到水的深度凈化除鹽,并同時通過水電解產(chǎn)生的氫離子和氫氧根離子對裝填樹脂進(jìn)行連續(xù)再生。
三、EDI超純水制取設(shè)備工藝流程圖如下:
 
 
工作狀態(tài)下,流經(jīng)EDI單元的水中的鹽離子發(fā)生三種遷移:
離子與陰、陽樹脂發(fā)生離子交換而結(jié)合到樹脂顆粒上;
離子在電場作用下經(jīng)樹脂顆粒構(gòu)成的離子通道遷移;
離子經(jīng)過離子交換膜遷移到濃水室,從而完成水的脫鹽過程;在一定的電流密度下,樹脂、膜、水之間的界面處因產(chǎn)生濃差極化而迫使水分解成H+OH-,從而同時再生了樹脂。
 
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四、EDI超純水制取設(shè)備特點(diǎn)
 連續(xù)運(yùn)行,產(chǎn)水水質(zhì)穩(wěn)定無需酸堿再生,利于環(huán)保產(chǎn)水率高,占地面積小操作簡單,容易實(shí)現(xiàn)全自動控制性能穩(wěn)定,維修工作量小運(yùn)行維護(hù)成本低
五、EDI超純水制取設(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域
電子行業(yè)如顯像管玻殼、顯像管、單晶硅半導(dǎo)體、印刷線路板、液晶顯示器、光盤、計(jì)算器硬盤、集成電路芯片等清洗用水;
電力行業(yè)低壓鍋爐所需除鹽水;
醫(yī)藥行業(yè)醫(yī)用大輸液、藥劑、注射劑、生化制品、人工透析用超純水;
電鍍電泳涂裝、石油、化工、冶金等工藝超純水;
光學(xué)玻璃鍍膜前清洗用超純水;
 
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